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同步輻射次微米X光成像技術所用鎢-矽光罩結構之研製、特性分析$ 熱模型
~
李子琦
同步輻射次微米X光成像技術所用鎢-矽光罩結構之研製、特性分析$ 熱模型
紀錄類型:
書目-語言資料,印刷品 : 單行本
作者:
李子琦,
出版地:
台北市
出版者:
國立台灣工業技術學院;
出版年:
民83
版本:
初版
面頁冊數:
一冊附圖,表 : 30公分;
同步輻射次微米X光成像技術所用鎢-矽光罩結構之研製、特性分析$ 熱模型
李, 子琦
同步輻射次微米X光成像技術所用鎢-矽光罩結構之研製、特性分析$ 熱模型
= : / 李子琦撰 ; - 初版. - 台北市 : 國立台灣工業技術學院, 民83. - 一冊 ; 附圖,表 ; 30公分.
附:附錄、參考書目及索引.
同步輻射次微米X光成像技術所用鎢-矽光罩結構之研製、特性分析$ 熱模型
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指導教授:孫澄源教授
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附:附錄、參考書目及索引
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部分內容為英文
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國立台灣工業技術學院電子工程技術研究所博士學位論文初稿
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Fabrication,Characterization and Thermal Modeling of Tung-sten-Silicon Mack Structure for ynchrotron Submicron X-RayLithography
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館藏地:
全部
六樓特藏二
出版年:
卷號:
館藏
期刊年代月份卷期操作說明(Help)
1 筆 • 頁數 1 •
1
條碼號
典藏地名稱
館藏流通類別
資料類型
索書號
使用類型
借閱狀態
預約人數
期刊出刊日期 / 原館藏地 / 其他備註
附件
146619
六樓特藏二
不外借(NON_CIR)
教師論文著作
TL 011.1/8445
一般使用(Normal)
書架上
0
4F特藏書一
不可經借書機辦理借閱。
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